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第182章 追光破光刻机难题

“我们不能蛮干。”

他沙哑著嗓子说,

“必须建立我们自己的光刻机病理学资料库。每一次失败,都要弄清楚为什么失败。”

章宸博士带领的架构团队也加入了战场,他提出了一个大胆的想法:

“既然硬体精度短期內难以突破,我们能否在晶片设计端进行补偿?比如,利用chiplet架构,將最精密的计算单元和对製程不敏感的io单元分开製造,再用先进封装集成?这样可以降低对单一製程良率的依赖。”

这个“设计-工艺协同优化”的思路,为困境中的团队打开了一扇窗。

虽然远水难解近渴,但无疑是面向未来的重要方向。

就在攻坚最白热化的阶段,周明带来了一个不知是好是坏的消息:通过东门子的隱秘渠道,一家位於霓虹的中型光刻胶公司“水獭化学”,愿意私下提供一批达到28nm基本要求的实验性光刻胶样品,但价格是市场价的五倍,且不提供任何技术支持,並要求绝对保密。

“这是趁火打劫,但也是救命稻草。”

林薇在內部会议上说。

陈醒拍板:

“买!不仅要买,还要派出我们的技术团队,以『客户』的身份,儘可能多地与他们的工程师交流,学习经验。同时,这笔钱也要让我们自己的『火炬小组』看到,我们离目標还有多远,激励他们必须搞出来!”

昂贵的霓虹样品暂时稳住了最低限度的研发和试验,但所有人都明白,这绝非长久之计。

转机出现在一个凌晨。

华科院实验室里,一个年轻的博士后在一次看似偶然的实验中,尝试引入了一种新型的金属氧化物纳米糰簇作为光刻胶的增强剂。

当测试结果出来时,所有人都惊呆了,在特定条件下,这种新型光刻胶在关键尺寸的均匀性和缺陷控制上,竟然首次超过了他们手上的霓虹样品!

“我们……我们好像找到了一条新路径!”

年轻博士后激动得声音发抖。

许教授和林薇立刻组织力量,围绕这一发现进行深度开发和优化。“火炬小组”士气大振。

又是两个月不眠不休的叠代。

终於,代號“曙光一號”的国產高纯度arf光刻胶,被小心翼翼地送入了华夏芯谷的產线。

整个车间鸦雀无声,所有人都屏息凝神,看著晶圆在光刻机中缓缓移动。

经过一道道复杂的工序,第一片採用完全自主光刻胶的28nm测试晶圆,被送入了电性测试环节。

当最终测试报告呈现在陈醒和林薇面前时,儘管已有心理准备,两人还是忍不住深吸一口气。

良率:70.5%!

虽然距离国际顶尖水平的百分之八九十还有差距,但相比之前58%的深渊,这已然是巨大的飞跃!

更重要的是,它证明了自主技术路线的可行性!

车间里爆发出一阵压抑已久的欢呼声,许多人甚至激动地流下了眼泪。

金秉洙博士看著数据,长长舒了一口气:

“基础打通了。接下来,就是通过工艺优化,稳步爬升良率,向75%,甚至80%进军。”

陈醒紧紧握住林薇和金秉洙的手,目光扫过每一张疲惫而兴奋的脸:

“同志们,我们追上了这缕光,並且亲手打破了套在我们脖子上的第一道枷锁!这不是终点,这只是我们华夏芯谷真正走向独立自主的开始!”

他顿了顿,对林薇说:

“立刻准备量產评估报告。『曙光一號』的成功,意味著我们扫清了28nm量產道路上最大的障碍。华夏芯谷,必须全力以赴,確保28nm工艺如期实现规模化量產,为『天权4號』和整个『天河计划』,打下最坚实的基石!”

窗外,合城的朝阳正喷薄而出,金色的光芒洒在华夏芯谷洁净的厂房屋顶上,仿佛为这支不屈的“追光”队伍,披上了胜利的曙光。

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